高能紫外线/臭氧光解氧化技术，是一种新型废气治理技术。
其基本原理是：废气物质一方面在高能紫外线照射下，使挥发性有机物等污染物分子键（VOCs）产生开环和断裂等多种化学反应，降解转变成CO2，H2O等低分子化合物；另一方面，利用高能紫外光照射分解空气中的氧气，生成臭氧，臭氧吸收紫外线生成氧自由基和氧气，氧自由基与空气中的水蒸气作用生成羟基自由基，一种更强的氧化剂，与醇、醛、羧酸等有机废气，彻底氧化为水、二氧化碳等无机物。另外，未吸收紫外线的臭氧也是一种强氧化剂，与一些有机废物接触后将其氧化生成水、二氧化碳等无机物，具有立竿见影的脱臭效果。采用镍基光触媒板，具有耐腐蚀性、比表面积大、重量轻、压损小、附着力好不易脱落、净化效率高等特点。
高分子污染物质分子键，经过高能紫外线光能的裂解及臭氧的氧化聚合作用，转变聚合成低分子无害或低害物质如H2O，CO2等。
臭氧产生的分子式
UVD→O2 = O¯+O+ = O2 +O¯；O2+ O+→O3
污染物质分子裂解转化的过程为
UVD→H2S = H+ + H¯+S→H + O3
S +O3 →H2O+ SO42-
UVD→CS2= C+ O3； S¯+ S +'+ O3→CO2+ SO42-
UV光催化内部结构图 UV光催化外观图
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