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单晶多晶制作保护气体氩气净化机净化装置性能稳定可靠

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商品信息

   高纯氩气纯化设备

  一、 概述

  氩气作为制作单晶及多晶硅的保护气体,为了提高硅晶体的质量,如何选用较高纯度的氩气,是制作硅晶体的一个议题。通过对本装置的使用,氩气的纯度其中氧含量小于1ppm时,水分也小于1ppm时,制作出的单晶硅其氧碳含量就小于0.5ppm,这样就提高了单晶的使用寿命并能达到要求,赢得客户的满意和市场的需求。

  由于一般液氩汽化后未经过纯化处理,它的氧含量一般在2ppm~5ppm。有时气体供应商提供的氩气超过了此范围,使用氩气的客户不知道其质量,所以往往给生产产品质量造成影响。有了氩气纯化装置后不论氩原料气的质量如何,只要经过纯化装置的处理后,进入拉晶炉的氩气,纯度始终是恒定的。

  一般氧含量小于0.5ppm,水分小于1ppm,这样稳定的氩气对生产晶体的质量是有保证的。

  二、 关于氩气纯化的方法

  **种

  直接脱氧法。就是使用活性金属与氩气中的氧气进行反应,消化掉氩气中的氧气,从而达到脱氧的目的,经过分子筛吸收掉氩气中的水份,使氩气的含水量小于1ppm。

  第二种

  是采用吸气剂。在一定温度下,吸气剂可吸收氮、氢、氧、一氧化碳、二氧化碳、甲烷等气体经吸收处理后,氩气的纯度可达到6个九,这种保护气体更适用于制作高纯度的半导体的单晶硅。

  利用吸气剂纯化后氩气的纯度:

  O2≤0.2ppm

  H2≤0.5ppm

  N2≤1ppm

  CO+CO2≤0.5ppm

  CH4≤0.5ppm

  水份≤1ppm

  **种方法设备投资小,设备中脱氧剂的使用寿命一般大于四年。

  第二种方法设备纯化纯度高但投资相对较大,吸气剂使用寿命为两年。

  `

  ★ :本公司也可根据客户要求,直接做高压的,这样就可省掉使用模压机增压工序。

  还可根据客户要求,配备分析仪在线时时检测设备中气体纯度。

  三、氩气用途

  高纯氩气用于焊接、不锈钢制造、冶炼,还用于半导体制造工艺中的化学气相淀积、晶体生长、热氧化、外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等氩气作为制作单晶及多晶硅的保护气。

  主要用途:欢迎新老用户选择我公司产品:氩气净化机,氩气净化器,高纯氩气净化,高纯氩气净化设备,高纯氩气纯化设备,高纯氩气纯化装置,YAC系列氩气净化设备,全自动氩气纯化设备,大型氩气净化设备,硅材料行业用氩气净化设备,硅材料用除氧、除水氩气纯化装置,气站专用氩气净化设备,气站专用氩气纯化器,气站用高纯氩设备,单晶硅行业用氩气除氧、干燥设备,多晶硅行业用氩气除氧、干燥设备,高纯氩气提纯设备,氩气提纯机,高纯氩气过滤器。

 

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供应商档案

苏州瑞泽气体净化设备有限公司
会员类型: 星级
所在地区: 江苏
企业认证: 认证商家
主营产品: 氩气净化机、氢气净化器、氮气净化器、氧气净化器、氦气净化器等,混气柜,光谱配套氩气净化机,氨气纯化装置,二氧化碳纯化装置,气体分离设备 展开全部
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